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光线曝光系统分析:照明系统+投影物镜

光线曝光系统分析:照明系统+投影物镜 曝光系统:曝光系统包含照明系统(光源加工)和投影物镜(高分辨成像) ,这是光刻机中最昂贵最复杂的部件之一。物镜的性能决定了光刻机的线宽、套刻精度,这是光刻机的核心部件,其技术水平很大程度上代表了光刻机的技术水平。 光刻机照明与投影物镜系统的工作流程图,如图1所示 ......
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zemax光学设计-案例6-照相物镜-双高斯物镜优化

案例6_照相物镜-双高斯物镜优化 1、 波长:白光 2、 EFFL = 75mm 3、 F# = 3 4、 视场 :像高24*36mm 对角线一半作为像高21.6mm 假设CCD按1080p计算,则单个像元尺寸大小约4.3um, RMS应<2.16um (RMS<1/2像元尺寸) 衍射频率极限 = ......
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